隨著光學(xué)計(jì)量、光學(xué)精密加工、半導(dǎo)體芯片、LED等技術(shù)性產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)光學(xué)元件表面面形的檢測(cè)精度，特別是超光滑表面面形檢測(cè)精度越來(lái)越高，而光學(xué)表面面形的加工精度受面形檢測(cè)精度限制。因此，提高計(jì)量檢測(cè)的檢測(cè)精度是至關(guān)重要的。計(jì)量型平晶的校準(zhǔn)檢測(cè)更是作為平面測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)，因此實(shí)現(xiàn)計(jì)量型平晶的高精度、快速、無(wú)損檢測(cè)尤為重要。
新的檢定規(guī)程與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
2020年1月1日開(kāi)始正式實(shí)施由國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布的JJG28-2019《平晶檢定規(guī)程》和中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部發(fā)布的JB/T 13872-2020《平面相移干涉儀》，慧利儀器是起草單位之一?；劾麅x器干涉儀其中一款——無(wú)應(yīng)力平面檢測(cè)干涉儀專門(mén)解決平晶計(jì)量檢測(cè)問(wèn)題，且滿足最新版檢定規(guī)程和校準(zhǔn)規(guī)范的要求。數(shù)字化的相移干涉儀和絕對(duì)校準(zhǔn)技術(shù)的應(yīng)用，使得此款干涉儀可實(shí)現(xiàn)平面平晶全表面測(cè)量，并兼顧國(guó)內(nèi)外平面平晶測(cè)量參數(shù)，測(cè)量精度PV可以高達(dá)λ/100 （波長(zhǎng)為632.8nm)；突破一等平面平晶的限制，消除干涉系統(tǒng)中參考面面形誤差的影響，實(shí)現(xiàn)低精度平晶對(duì)高精度平晶的測(cè)量，且重復(fù)性RMS可以高達(dá)λ/3000。降低50%以上自重變形量對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響以及絕對(duì)校準(zhǔn)因環(huán)境（溫度、時(shí)間）變化所導(dǎo)致的形貌變化，規(guī)避測(cè)量環(huán)境不穩(wěn)定對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)的干擾，從而解決平面平晶的高精度測(cè)量問(wèn)題。
慧利儀器自主研發(fā)的測(cè)量軟件系統(tǒng)可以兼容現(xiàn)行等傾干涉儀的平面度離散點(diǎn)參數(shù)體系，提高平晶平面度測(cè)量?jī)x的通用性；建立全面的全表面形貌參數(shù)體系，檢測(cè)納米級(jí)平晶表面形貌的多種特征參數(shù)（計(jì)量檢測(cè)結(jié)果可顯示RMS、PV、10PV、PVr、二維圖、三維圖、36項(xiàng)澤尼克系數(shù)等全面形數(shù)據(jù)）；測(cè)量軟件界面可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)庫(kù)存儲(chǔ)和調(diào)用，滿足測(cè)量數(shù)據(jù)信息快速、準(zhǔn)確、流暢的使用需求。
